Optimized lithography and etching processes for a magnetic oxide micro‐device - Normandie Université Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue physica status solidi (c) Année : 2004

Dates et versions

hal-03544993 , version 1 (27-01-2022)

Identifiants

Citer

Wilfrid Prellier, R. Soulimane, M. Koubaa, A. Haghiri‐gosnet, B. Mercey, et al.. Optimized lithography and etching processes for a magnetic oxide micro‐device. physica status solidi (c), 2004, 1 (7), pp.1687-1690. ⟨10.1002/pssc.200304426⟩. ⟨hal-03544993⟩
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