Article Dans Une Revue
Applied physics. A, Materials science & processing
Année : 2011
Clara Grygiel : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://normandie-univ.hal.science/hal-02887893
Soumis le : jeudi 2 juillet 2020-15:39:42
Dernière modification le : vendredi 4 août 2023-15:06:59
Citer
L. Yan, Z. Xu, C. Grygiel, S. Mcmitchell, M. Suchomel, et al.. SrHf0.67Ti0.33O3 high-k films deposited on Si by pulsed laser deposition. Applied physics. A, Materials science & processing, 2011, 104 (1), pp.447-451. ⟨10.1007/s00339-011-6257-8⟩. ⟨hal-02887893⟩
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