Characterization of p-type Doping in Silicon Nanocrystals Embedded in SiO 2

Rémi Demoulin (1) , Manuel Roussel (1) , Sébastien Duguay (1) , D. Muller (2) , D. Mathiot (2) , Philippe Pareige (1) , Etienne Talbot (1)

1 GPM - Groupe de physique des matériaux
2 ICube - Laboratoire des sciences de l'ingénieur, de l'informatique et de l'imagerie

Domaines: Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Rémi Demoulin, Manuel Roussel, Sébastien Duguay, D. Muller, D. Mathiot, et al.. Characterization of p-type Doping in Silicon Nanocrystals Embedded in SiO 2. Microscopy & Microanalysis 2019, Aug 2019, Portland, United States. pp.2540-2541, ⟨10.1017/S1431927619013436⟩. ⟨hal-02294165⟩