Lattice and grain-boundary diffusion of As in Ni2Si

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Contributeur : Blum Ivan <>
Soumis le : lundi 13 mai 2019 - 17:21:24
Dernière modification le : lundi 23 septembre 2019 - 18:30:04

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Citation

Ivan Blum, A. Portavoce, Dominique Mangelinck, Rachid Daineche, K. Hoummada, et al.. Lattice and grain-boundary diffusion of As in Ni2Si. Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2008, 104 (11), pp.114312. ⟨10.1063/1.3035836⟩. ⟨hal-02127829⟩

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